电子超纯水设备

OW电子超纯水设备主要应用于电解电容器生产铝箔及工作件的清洗，电子管生产，电子管阴极涂敷碳酸盐配液，显像管和阴极射线管生产配料用纯水黑白显像管荧光屏生产，玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水，液晶显示器的生产，屏面需用纯水清洗和用纯水配液晶体管生产中主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制集成电路生产中高纯水清洗硅片等。

       电子超纯水设备详解:电子工业超纯水设备通常由多介质过滤器，活性碳过滤器，钠离子软化器、精密过滤器等构成预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床（EDI电除盐系统）系统等构成主要设备系统。

半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的纯水、高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，线宽越窄，对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业等级，分别为18MΩNaN、15MΩNaN、10MΩNaN、2MΩNaN、0.5MΩNaN，以区分不同水质。

电子超纯水设备工艺流程:采用反渗透设备与电去离子（EDI）设备进行搭配制备电子工业超纯水的的方式，这是一种制取超纯水的新工艺，也是一种环保，经济，发展潜力巨大的超纯水制备工艺，其基本工艺流程为：原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→反渗透设备→电去离子（EDI）→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点、原水箱、中间水箱、 RO纯水水箱、超纯水水箱均设有液位控制系统、高低压水泵均设有高低压压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器，真正做到了无人值守，同时在工艺选材上采用和客户要求相统一的方法，使该设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。

电子超纯水设备出水标准

●中国电子行业超纯水国家标准GB/1146.1-1997

●实验室用水国家标准GB6682-92

●美国半导体工业用纯水指标

●美国试验级用水标准( ASTM/NCCLS)

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