铝靶材是用于真空镀膜行业溅射靶材中的一种，是高纯铝经过系列加工后的产品，具有特定的尺寸和形状高纯铝材料，安装在真空镀膜机上，溅射成膜。
铝靶材物理性质：
元素符号 | Al靶材 | 元素符号 | Al靶材 |
相对分子质量 | 26.98 | 蒸发潜热 | 11.4 |
原子体积 | 9.996*10-6 | 蒸汽压 | 660/10-8-10-9 |
晶型 | Fcc面心立方 | 电导率 | 37.67 |
堆积密度 | 74% | 电阻系数 | +0.115 |
配位数 | 12 | 吸收光谱 | 0.20*10-24 |
晶格能 | 200*10-7 | 泊松比 | 0.35 |
密度 | 2.7 | 可压缩性 | 13.3mm2/MN |
弹性模量 | 66.6Gpa | 熔点 | 660.2 |
剪切模量 | 25.5Gpa | 沸点 | 约2500 |
常用纯度 | 99.9%3N，99.99%4N，99.999%5N，99.9999%6N | ||
铝靶用途：适用于直流二极溅射、三极溅射、四级溅射、射频溅射、对向靶溅射、离子束溅射、磁控溅射等，可镀制反光膜、导电膜、半导体薄膜、电容器薄膜、装饰膜、保护膜、集成电路、显示器等，相对其它靶材，铝靶材的较低，所以铝靶材是在能满足膜层的功能前提下的靶材料。
